产品介绍：
S1800系列， 正胶、紫外光刻胶。
光源推荐：g-Line，也可以用于宽谱；
单层厚度：0.4-2.7um。
型号：
S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2
应用：
应用于湿法腐蚀和干法刻蚀，也与底层胶LOR搭配，做lift-off 工艺。
特性：
● 通过最先进的物理、化学和功能测试，保证批次与批次之间的一致性
● 绝对过滤精度0.2um，杂质少
● 不含醋酸纤维素和二甲苯
● 高分辨
● 粘附性好
● 涂胶厚度均匀
● 多种标准粘度可用于单层加工
● 可适用于无金属离子的(MIF)显影液和含金属离子的显影液(MIC)
● 易去胶
