产品介绍：
HSQ系列电子束光刻胶，负胶;
光源推荐：E-beam，X-ray;
单层厚度：30-950nm。
型号：
XR-1541-002/XR-1541-004/XR-1541-006/fox15/fox16/fox24/fox25
应用：
HSQ基于笼状齐聚倍半硅氧烷HSQ 的负性电子束光刻胶，可用于纳米级别干法刻蚀的掩膜。
特性：
● 高分辨率（分辨率最高的光刻胶，极限可达几个nm）
● 耐刻蚀
● 垂直型好
● 对比度高
● 低介电常数
