产品介绍：
RE500系列电子束光刻胶，负胶；
光源推荐：E-beam；
单层厚度：105nm、590nm、1μm。
型号：
RE500.06/RE500.20。
应用：
RE500是基于笼状齐聚倍半硅氧烷HSQ 的负性电子束光刻胶，可用于纳米级别干法刻蚀的掩膜。
特性：
● 高分辨率（＜20nm），低LWR
● 耐刻蚀性能高（基于硅氧烷树脂）
● 水性显影液
● 对标进口产品XR1541以及fox系列
