工艺介绍：
1、注入能量：10keV～1MeV（单价离子）；
2、注入剂量：1E11～1E15ions/cm2，1E15以上剂量视具体工艺参数确定是否可加工，大剂量建议使用大束流设备；
3、样品：常规6寸以下兼容；最小衬底尺寸10*10mm；
4、目前可进行硼、磷、氮、硅等元素离子注入。
