型号：Resist Remover RR41
主要成分：
二甲基亚砜 20-80% CAS 67-68-5；
氨基衍生物 20-80%。
原理与使用方法：
Resist Remover RR41是一种剥离溶液，通过溶胀/溶解去除基材表面的光刻胶。
使用方法：
1、 将溶液倒入抗蚀剂剥离槽中；
2、 在通风橱内将溶液加热到100°C；
3、 将涂有抗蚀剂的基材放在溶液中5分钟;
4、 用去离子水冲洗基材，直至水电阻率达到规定。
储存:
确保工作间有良好的通风、排气装置；
放入密封的贮藏器，储存在阴凉、干燥的地方；
使用防爆炸的设备或装置和防火花的工具；
远离热源和阳光直射；
远离火源，禁止吸烟。
