型号：
MICROPOSITR MF-319 DEVELOPER
主要成分：
水 ＞95% CAS 7732-18-5；
表面活性剂 ＜1%；
四甲基氢氧化铵 2.2% CAS 75-59-2。
原理与使用方法：
MF-319显影液专门用于高分辨率半导体器件。它是S1400®和S1800®系列光刻胶的专用无金属离子的显影液。虽然MF-319显影液可以用于浸泡显影、旋喷显影，但最理想的显影方式是喷雾式或者puddle式显影。
储存:
存储在干燥区域，温度范围为50°-90°F（10°-32°C）；
远离酸、阳光、热源和火源；
放入密封的贮藏器。
